Dev:JA/Ref/Release Notes/2.74/Painting

Blender 2.74: スカルプティング/ペインティング

スカルプティング/ペインティングに次のような改良が行われました：Rake（レーキ）と Random（ランダム）マッピングへのオプション追加、45度の描画ストロークに対応、テクスチャペイントストロークのディザ処理、くぼみや丘の上にマスクする Cavity（キャビティ）マスクなど…。

ブラシ/ストローク

右側はブラシテクスチャとブラシテクスチャマスク用の新しい Rake（レーキ）と Random（ランダム）角度設定

• Rake（レーキ）と Random（ランダム）マッピングがもう排他ではなくなりました。

• Random（ランダム）マッピングは範囲の値を取ります。

• Rake（レーキ）と Random（ランダム）はマスクブラシでも個別に対応しています。

• Line（ライン）ストロークを、ストローク開始時にCtrlを押しっぱなしにすることで、45度きざみの角度に制限できるように。

テクスチャペインティング

テクスチャペインティング時の Cavity Mask（キャビティマスク）オプションの使用例

• バイト画像へのペイント中のディザリングに対応。量のコントロールは Options（オプション）タブ内のスライダで行います。

• ペイント中の Cavity（キャビティ）マスキングに対応しました。キャビティマスキングとは、メッシュオプションに応じ、ブラシがメッシュ表面上に凹部または凸部があれば保護されることを意味します。現時点のキャビティアルゴリズムは頂点ベースになっています。

• Cycles での UV ノード対応：

ペイント時、画像テクスチャの前にある UV Map（UV マップ）ノードはすべてカスタム UV レイヤーに使用できるようになりました。ただし、UV のトランスフォーム（Mapping（マッピング）ノード）と複数の UV ノードには未対応です。